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    专

    一种轮状病毒vp7重组蛋白及其应用

    1263631426B2
    发明人
    ZHANG LILI, FANG RONGXIANG, SONG ZHIYU, Xie Chuanmiao, HUO YAN, ZHANG YUMAN, QU WEIHUAN, LIU CHAOREN
    受让人
    ZHILIAN SHANGHAI BIOTECHNOLOGY CO LTD
    申请人
    INT STANDARD ELECTRIC CORP
    申请号
    3006310
    申请日
    2001-12-11
    公开(公告)号
    1263631426B2
    公开(公告)日
    2015-04-20
    IPC分类号
    G01N001/00G01N001/22G01N030/04G01N001/40G01N030/16G01N030/72G01N035/10
    CPC分类号
    -
    优先权号
    2251462
    优先权日
    1972-10-19
    摘要

    NOVELTY - A cathode (14) providing high frequency to wafer (W) and a ring-shaped lower anode (22) are arranged at center and periphery of wafer stage (10). A stem (24) elevatably provided above stage has an insulator (34) with a concave section (32) opposing upper surface of stage. A ring-shaped upper anode (36) is arranged at periphery of insulator, so that plasma is generated between circumference of wafer and anodes.

    USE - For performing plasma etching to film formed on substrate in plasma etching system (claimed).

    ADVANTAGE - The wafer can be etched from the upper surface to the bottom face through side face in a single process correctly and exactly, hence desired region of wafer can be etched at reduced time and cost. The etching process becomes simple by avoiding wet washing process and use of wet washing semiconductor element.

    DETAILED DESCRIPTION - An INDEPENDENT CLAIM is also included for plasma etching system.

    DESCRIPTION OF DRAWING(S) - The figure shows the sectional view of the plasma etching chamber.

    wafer stage (10)

    cathode (14)

    ring-shaped lower anode (22)

    tem (24)

    concave section (32)

    insulator (34)

    ring-shaped upper anode (36)

    wafer (W)

    权利要求
    1.一种高增益Cuk变换器,其特征在于,包括电源V g 、开关管S、电阻R、第一二极管D 1 、第二二极管D 2 、第三二极管D 3 、第四二极管D 4 、第五二极管D 5 、第六二极管D 6 、第七二极管D 7 、输出二极管D o 、第一电感L 1 、第二电感L 2 、第三电感L 3 、第四电感L 4 、第五电感L 5 、倍压电容C、寄生二极管D s 、寄生电容C s ; 其中,电源V g 的正极端分别与第一电感L 1 的第一端以及第一二极管D 1 的正极端电连接,电源V g 的负极端分别与开关管S的第二端、寄生二极管D s 的正极端、寄生电容C s 的第二端、第四电感L 4 的第二端、第七二极管D 7 的负极端及电阻R的第二端电连接; 第二二极管D 2 的正极端分别与第一二极管D 1 的负极端及第二电感L 2 的第一端电连接,第二二极管D 2 的负极端分别与第一电感L 1 的第二端及第三二极管D 3 的正极端电连接;第一电感L 1 的第一端与第一二极管D 1 的正极端电连接;第三二极管D 3 的负极端与第二电感L 2 的第二端电连接; 第四二极管D 4 的负极端分别与输出二极管D o 的负极端、第五二极管D 5 的正极端和第三电感L 3 的第一端电连接,第四二极管D 4 的正极端分别与倍压电容C的第一端、开关管S的第一端、寄生二极管D s 的负极端、寄生电容C s 的第一端、第三二极管D 3 的负极端和第二电感L 2 的第二端和电连接; 第六二极管D 6 的正极端分别与第五二极管D 5 的负极端及第四电感L 4 的第一端电连接,第六二极管D 6 的负极端分别与第三电感L 3 的第二端及第七二极管D 7 的正极端电连接;第五二极管D 5 的正极端与第三电感L 3 的第一端电连接;第七二极管D 7 的负极端与第四电感L 4 的第二端电连接; 第五电感L 5 的第一端分别与倍压电容C的第二端和输出二极管D o 的正极端电连接,第五电感L 5 的第二端与电阻R的第一端电连接; 其中,开关管S的第三端连接控制电路,电阻R的第一端和第二端形成输出端。
    2.根据权利要求1所述的一种高增益Cuk变换器,其特征在于,所述开关管S为MOS管,所述开关管S的第一端为漏极,所述开关管S的第二端为源极,开关管S的第三端为栅极。
    3.根据权利要求1所述的一种高增益Cuk变换器,其特征在于,所述控制电路采用PI控制。
    4.一种根据权利要求1-3任一项所述的一种高增益Cuk变换器的控制方法,其特征在于,包括如下步骤: 生成控制信号,将所述控制信号传输至开关管S的第三端; 根据所述控制信号控制开关管S的通断,使得所述变换器在一个工作周期内交替工作于多种工作模态。
    5.根据权利要求4所述的一种高增益Cuk变换器的控制方法,其特征在于,所述多种工作模态为五种工作模态,所述五种工作模态分别为第一工作模态、第二工作模态、第三工作模态、第四工作模态和第五工作模态。
    6.根据权利要求5所述的一种高增益Cuk变换器的控制方法,其特征在于,所述第一工作模态为:开关管S断开,第一二极管D 1 、第三二极管D 3 、第七二极管D 7 和输出二极管D o 导通,第一电感L 1 、第二电感L 2 、电感L 3 和电感L 4 的释放能量并给倍压电容C充电,流经第一电感L 1 、第二电感L 2 、第三电感L 3 和第四电感L 4 的电流线性减小。
    7.根据权利要求5所述的一种高增益Cuk变换器的控制方法,其特征在于,所述第二工作模态为:开关管S断开,第一二极管D 1 、第三二极管D 3 、第四二极管D 4 和第六二极管D 6 导通,寄生电容C s 、第三电感L 3 、和第四电感L 4 发生谐振。
    8.根据权利要求5所述的一种高增益Cuk变换器的控制方法,其特征在于,所述第三工作模态为:开关管S断开,第一二极管D 1 、第三二极管D 3 、第五二极管D 5 和第七二极管D 7 导通,第一电感L 1 、第二电感L 2 、第三电感L 3 和第四电感L 4 储存能量,流经第一电感L 1 、第二电感L 2 、第三电感L 3 和第四电感L 4 的电流线性增大。
    9.根据权利要求5所述的一种高增益Cuk变换器的控制方法,其特征在于,所述第四工作模态为:开关管S导通,第一二极管D 1 、第三二极管D 3 、第四二极管D 4 和第六二极管D 6 导通,第三电感L 3 和第四电感L 4 释放能量,流经第三电感L 3 和第四电感L 4 的电流线性减小。
    10.根据权利要求5所述的一种高增益Cuk变换器的控制方法,其特征在于,所述第五工作模态为:开关管S断开,第一二极管D 1 、第三二极管D 3 和第六二极管D 6 导通,第一电感L 1 、第二电感L 2 、第三电感L 3 和第四电感L 4 给寄生电容C s 充电直至倍压电容C的电压与第三电感L 3 的电压相等。
    说明书
    [0001]技术领域
    [0002]本发明涉及无机非金属粉体材料技术领域,尤其涉及一种氮化硅镁粉体及其制备方法。
    [0003]背景技术
    [0004]氮化硅镁(MgSiN 2 )粉体,是制备高热导率氮化硅陶瓷基板的理想烧结助剂材料。目前,MgSiN 2 陶瓷粉体的制备方法包括高温氮化法、燃烧合成法以及高温自蔓延法。高温氮化法制备氮化硅镁存在生产周期长、能耗高、产物中易出现残余硅等问题。燃烧合成法是一种周期短、能耗低的低成本制备方法。但燃烧反应温度高(>2000℃),易导致反应物中镁粉的蒸发损失,难以制得单相的MgSiN 2 粉体。自蔓延高温合成制备单相氮化硅镁粉体通过在原料中加入过量Mg和稀释剂(MgSiN 2 ),或减小N 2 压力,然而都不能直接燃烧合成得到单相MgSiN 2 粉体。因此,亟待探索一种高质量单相MgSiN 2 陶瓷粉体的燃烧合成新工艺。
    [0005]发明内容
    [0006]有鉴于此,本发明的目的在于提供一种氮化硅镁粉体及其制备方法。本发明制得的氮化硅镁粉体氧含量低,纯度高,粒径小。
    [0007]为了实现上述发明目的,本发明提供以下技术方案:
    [0008]本发明提供了一种氮化硅镁粉体的制备方法,包括以下步骤:
    [0009]将镁粉经叠氮盐水溶液浸渍后进行真空干燥,得到干燥后的镁粉;
    [0010]将所述干燥后的镁粉、四氯化硅和格氏试剂混合,在反应釜密封加热并恒温反应后粉碎,得到粉末;
    [0011]将所述粉末和氮化硅镁粉混合后在氮气下进行自蔓延燃烧反应,得到所述氮化硅镁粉体。
    [0012]优选的,所述叠氮盐水溶液中的可溶性叠氮盐包括叠氮化钠、叠氮化钾和叠氮化铵中的一种或多种。
    [0013]优选的,所述叠氮盐水溶液的质量百分比浓度为5~30%。
    [0014]优选的,所述恒温反应的温度为180~220℃,时间为6~18h。
    [0015]优选的,所述格氏试剂的体积为四氯化硅体积的0.1~2%。
    [0016]优选的,所述镁粉和四氯化硅的摩尔比为1:1。
    [0017]优选的,所述粉末和氮化硅镁粉的质量比为100:5~50。
    [0018]优选的,所述镁粉的粒度为1~50μm,氮化硅镁粉的粒度为0.1~5μm。
    [0019]本发明还提供了上述技术方案所述的制备方法制得的氮化硅镁粉体,所述氮化硅镁粉体的粒度为50~100nm,氧含量<0.2wt%。
    [0020]本发明提供了一种氮化硅镁粉体的制备方法,包括以下步骤:将镁粉经叠氮盐水溶液浸渍后进行真空干燥,得到干燥后的镁粉;将所述干燥后的镁粉、四氯化硅和格氏试剂混合,在反应釜密封加热并恒温反应后粉碎,得到粉末;将所述粉末和氮化硅镁粉混合后在氮气下进行自蔓延燃烧反应,得到所述氮化硅镁粉体。
    [0021]本发明与现有技术相比,具有如下有益效果:
    [0022]本发明利用溶剂热法将叠氮盐与四氯化硅在较低温度下与镁粉表面合成致密氮化硅层,实现了镁粉与氮化硅高机械强度和化学惰性的完美结合,形成的氮化硅是一种超硬物质,还具有良好的化学惰性,经氮化硅改性后的镁粉能够有效抑制粉体间的相互作用,保证颗粒的均匀分散,不会造成镁元素损失,且反应温度能够可控降低,从而也能降低镁的蒸发,进一步提高镁元素的利用率;氮化硅镁作为稀释剂,能够控制反应速率,减少放热量,降低燃烧温度,且能够形成小粒径的纯相氮化硅镁,避免了常规工艺中由于镁粉损失而形成杂相氮化硅等的弊端,提高了氮化硅镁粉体的纯度。本发明制得的氮化硅镁粉体的粒度为50~100nm,氧含量<0.2wt%。
    [0023]具体实施方式
    [0024]本发明提供了一种氮化硅镁粉体的制备方法,包括以下步骤:
    [0025]将镁粉经叠氮盐水溶液浸渍后进行真空干燥,得到干燥后的镁粉;
    [0026]将所述干燥后的镁粉、四氯化硅和格氏试剂混合,在反应釜密封加热并恒温反应后粉碎,得到粉末;
    [0027]将所述粉末和氮化硅镁粉混合后在氮气下进行自蔓延燃烧反应,得到所述氮化硅镁粉体。
    [0028]在本发明中,若无特殊说明,使用的原料均为本领域市售商品。
    [0029]本发明将镁粉经叠氮盐水溶液浸渍后进行真空干燥。
    [0030]在本发明中所述镁粉的粒度优选为1~50μm。
    [0031]在本发明中,所述叠氮盐水溶液中的可溶性叠氮盐优选包括叠氮化钠、叠氮化钾和叠氮化铵中的一种或多种。
    [0032]在本发明中,所述叠氮盐水溶液的质量百分比浓度优选为5~30%,使镁粉表面能够负载足够浓度的叠氮盐,同时避免叠氮盐结晶析出现象。
    [0033]在本发明中,所述真空干燥的温度优选为20~80℃,时间优选为2~4h,在此温度和时间下,能有效除去镁粉表面的水分,有利于下一步合成反应的进行。
    [0034]得到干燥后的镁粉后,本发明将所述干燥后的镁粉、四氯化硅和格氏试剂混合,在反应釜密封加热并恒温反应后粉碎,得到粉末。
    [0035]在本发明中,所述恒温反应的温度优选为180~220℃,该温度范围能够有效控制反应的正常进行,同时避免叠氮盐化合物的高温分解,时间优选为6~18h。
    [0036]在本发明中,所述格氏试剂的体积优选为四氯化硅体积的0.1~2%。本发明对所述格式试剂的具体种类没有特殊的限定,格氏试剂在此作为反应催化剂,能加快四氯化硅与叠氮盐间的反应速率,并促进反应充分进行。
    [0037]在本发明中,所述镁粉和四氯化硅的摩尔比优选为1:1。
    [0038]得到粉末后,本发明将所述粉末和氮化硅镁粉混合后在氮气下进行自蔓延燃烧反应,得到所述氮化硅镁粉体。
    [0039]在本发明中,所述粉末和氮化硅镁粉的质量比优选为100:5~50。
    [0040]在本发明中,所述氮化硅镁粉的粒度优选为0.1~5μm。
    [0041]本发明还提供了上述技术方案所述的制备方法制得的氮化硅镁粉体,所述氮化硅镁粉体的粒度为50~100nm,氧含量<0.2wt%。
    [0042]为了进一步说明本发明,下面结合实例对本发明提供的氮化硅镁粉体及其制备方法和应用进行详细地描述,但不能将它们理解为对本发明保护范围的限定。
    [0043]实施例1
    [0044]1)将叠氮化钠溶解于去离子水,配制成重量百分比浓度为18%的叠氮化钠水溶液;
    [0045]2)将镁粉(粒度为1~50μm)倒入上述叠氮盐水溶液,充分搅拌后过滤,然后在50℃的温度下于真空干燥箱中进行4h干燥处理;
    [0046]3)将干燥后的镁粉置于不锈钢反应釜中,加入四氯化硅,再滴加格氏试剂,将反应釜密封并使用高纯氮气吹扫10min,随后以3℃/min的速率升温至220℃,并恒温反应10h,其中格氏试剂的体积为四氯化硅体积的0.1%,镁粉和四氯化硅的摩尔比为1:1;
    [0047]4)将得到的粉末和氮化硅镁粉混合后在氮气下进行自蔓延燃烧反应,得到所述氮化硅镁粉体,其中粉末和氮化硅镁粉的质量比为100:50,氮化硅镁粉的粒度为0.1~5μm。
    [0048]制得的氮化硅镁粉体的粒度为79nm,氧含量为0.2wt%。
    [0049]实施例2
    [0050]1)将叠氮化钠溶解于去离子水,配制成重量百分比浓度为18%的叠氮化钠水溶液;
    [0051]2)将镁粉(粒度为1~50μm)倒入上述叠氮盐水溶液,充分搅拌后过滤,然后在50℃的温度下于真空干燥箱中进行4h干燥处理;
    [0052]3)将干燥后的镁粉置于不锈钢反应釜中,加入四氯化硅,再滴加格氏试剂,将反应釜密封并使用高纯氮气吹扫10min,随后以3℃/min的速率升温至180℃,并恒温反应18h,其中格氏试剂的体积为四氯化硅体积的0.2%,镁粉和四氯化硅的摩尔比为1:1;
    [0053]4)将得到的粉末和氮化硅镁粉混合后在氮气下进行自蔓延燃烧反应,得到所述氮化硅镁粉体,其中粉末和氮化硅镁粉的质量比为100:5,氮化硅镁粉的粒度为0.1~5μm。
    [0054]制得的氮化硅镁粉体的粒度为50nm,氧含量为0.09wt%。
    [0055]实施例3
    [0056]1)将叠氮化钠溶解于去离子水,配制成重量百分比浓度为18%的叠氮化钠水溶液;
    [0057]2)将镁粉(粒度为1~50μm)倒入上述叠氮盐水溶液,充分搅拌后过滤,然后在50℃的温度下于真空干燥箱中进行4h干燥处理;
    [0058]3)将干燥后的镁粉置于不锈钢反应釜中,加入四氯化硅,再滴加格氏试剂,将反应釜密封并使用高纯氮气吹扫10min,随后以3℃/min的速率升温至200℃,并恒温反应12h,其中格氏试剂的体积为四氯化硅体积的0.15%,镁粉和四氯化硅的摩尔比为1:1;
    [0059]4)将得到的粉末和氮化硅镁粉混合后在氮气下进行自蔓延燃烧反应,得到所述氮化硅镁粉体,其中粉末和氮化硅镁粉的质量比为100:10,氮化硅镁粉的粒度为0.1~5μm。
    [0060]制得的氮化硅镁粉体的粒度为63nm,氧含量为0.14wt%。
    [0061]实施例4
    [0062]1)将叠氮化钠溶解于去离子水,配制成重量百分比浓度为18%的叠氮化钠水溶液;
    [0063]2)将镁粉(粒度为1~50μm)倒入上述叠氮盐水溶液,充分搅拌后过滤,然后在50℃的温度下于真空干燥箱中进行4h干燥处理;
    [0064]3)将干燥后的镁粉置于不锈钢反应釜中,加入四氯化硅,再滴加格氏试剂,将反应釜密封并使用高纯氮气吹扫10min,随后以3℃/min的速率升温至210℃,并恒温反应16h,其中格氏试剂的体积为四氯化硅体积的0.2%,镁粉和四氯化硅的摩尔比为1:1;
    [0065]4)将得到的粉末和氮化硅镁粉混合后在氮气下进行自蔓延燃烧反应,得到所述氮化硅镁粉体,其中粉末和氮化硅镁粉的质量比为100:25,氮化硅镁粉的粒度为0.1~5μm。
    [0066]制得的氮化硅镁粉体的粒度为57nm,氧含量为0.12wt%。
    [0067]实施例5
    [0068]1)将叠氮化钠溶解于去离子水,配制成重量百分比浓度为18%的叠氮化钠水溶液;
    [0069]2)将镁粉(粒度为1~50μm)倒入上述叠氮盐水溶液,充分搅拌后过滤,然后在50℃的温度下于真空干燥箱中进行4h干燥处理;
    [0070]3)将干燥后的镁粉置于不锈钢反应釜中,加入四氯化硅,再滴加格氏试剂,将反应釜密封并使用高纯氮气吹扫10min,随后以3℃/min的速率升温至205℃,并恒温反应12h,其中格氏试剂的体积为四氯化硅体积的0.2%,镁粉和四氯化硅的摩尔比为1:1;
    [0071]4)将得到的粉末和氮化硅镁粉混合后在氮气下进行自蔓延燃烧反应,得到所述氮化硅镁粉体,其中粉末和氮化硅镁粉的质量比为100:5,氮化硅镁粉的粒度为0.1~5μm。
    [0072]制得的氮化硅镁粉体的粒度为85nm,氧含量为0.16wt%。
    [0073]以上所述仅是本发明的优选实施方式,并非对本发明作任何形式上的限制。应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。
    同族专利
    暂无同族专利