基本信息
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职业迁徙
个人简介
齐红基: 1979年8月生于河南省镇平县,2005中科院上海光机所博士毕业,曾获得中科院大恒光学奖学金。2012年入选中科院青年创新促进会。主要从事强激光薄膜制备工艺研究,尤其是大口径激光薄膜高精度面形控制。目前在国内外核心学术期刊上已经撰写或合作发表论文77篇,其中被EI/SCI/ISTP/SSCI检索60余篇。目前主持项目有“紫外激光薄膜损伤阈值特性研究”,“激活镜式钕玻璃防水反射膜工艺研究”等,国家自然科学青年基金项目“电控“雕塑”薄膜研究”。作为主要参加人员完成了“高强度、优质介质膜批量生产工艺研究与验证”,“新型高阈值宽带膜技术研究”等项目,获得,国家军队科技进步二等奖1次。自2009年开始连续承担了中科院光学薄膜培训班“薄膜基础理论”课程主讲教师;自2007年开始,连续三次参加了美国光学学会主办的光学干涉薄膜会议(OIC)薄膜设计竞赛。
研究兴趣
论文共 194 篇作者统计合作学者相似作者
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CRYSTAL GROWTH & DESIGNno. 5 (2024): 1959-1968
Journal of Semiconductorsno. 6 (2023)
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0
0
MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING (2023)
CRYSTENGCOMMno. 24 (2023): 3556-3563
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Xiangyu Xu,Ziqian Sheng,Jueli Shi, Xin Chen,Yaxin He, Wenjing Xu,Xu Zhang,Duanyang Chen,Hongji Qi,Kelvin H. L. Zhang
ADVANCED OPTICAL MATERIALS (2023)
引用0浏览0引用
0
0
CHINESE OPTICS LETTERSno. 4 (2023)
引用0浏览0引用
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0
Chinese Optics Lettersno. 4 (2023)
引用0浏览0引用
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APPLIED PHYSICS LETTERSno. 17 (2023)
引用1浏览0引用
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