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Monolithically Integrated Complementary Ferroelectric FET XNOR Synapse for the Binary Neural Network
Junghyeon Hwang,Hongrae Joh, Chaeheon Kim,Jinho Ahn,Sanghun Jeon
ACS APPLIED MATERIALS & INTERFACESno. 2 (2024): 2467-2476
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Vertically tailored hybrid multilayer EUV photoresist with vertical molecular wire structure
Myung Mo Sung, Hyeonseok Ji, Jaehyuk Lee,Jinho Ahn, Chang Gyoun Kim,Sangsul Lee,Yasin Ekinci, Prajith Karadan,Dimitrios Kazazis
Optical and EUV Nanolithography XXXVII (2024)
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Study on ZrSi2 as a Candidate Material for Extreme Ultraviolet Pellicles
Seong Ju Wi, Won Jin Kim,Haneul Kim, Dongmin Jeong,Dong Gi Lee, Jaehyuck Choi,Sang Jin Cho, Lan Yu,Jinho Ahn
MEMBRANESno. 8 (2023): 731-731
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Molybdenum carbide pellicle for high-power EUV lithography
Yongkyung Kim, Kihun Seong, Jonghyuk Yoon,Donggi Lee,Seungchan Moon, Sung Kyu Jang,Hyun-Mi Kim,Seul-Gi Kim,Jinho Ahn,Hyeongkeun Kim
INTERNATIONAL CONFERENCE ON EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY 2023 (2023)
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Experimental demonstration of the influence of extreme ultraviolet pellicle wrinkles on mask 3D effects
Dong-Gi Lee, Seung Chan Moon, J. Choi,Seong Ju Wi,Jinho Ahn
Applied Opticsno. 24 (2023): 6307-6307
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