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Tensile strain in arsenic heavily doped
G. Borot, L. Rubaldo,L. Clement,R. Pantel, D. DutartreK,J. Slotte, F. TuomistoX. Mescot, M., Gri,G. Ghibaudo
semanticscholar（2017）
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14nm FDSOI technology for high speed and energy efficient applications
O Weber,E Josse,F Andrieu,A Cros,E Richard, P Perreau, E Baylac, N Degors, C Gallon, E Perrin,S Chhun, E Petitprez,
VLSI Technology（2014）
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