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Thin, high atomic weight refractory film deposition for diffusion barrier, adhesion layer, and seed layer applications

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B, no. 3 (1996): 1819-1827

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摘要

Thin, nearly conformal films are required for semiconductor applications to function as diffusion barriers, adhesion layers and seed layers within trenches and vias, The deposition of high mass refractory films with conventional, noncollimated magnetron sputtering at low pressures shows better-than-expected conformality which is dependent...更多

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c a nichols
c a nichols
r b turkot
r b turkot
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