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Ultrasmooth silver thin films deposited with a germanium nucleation layer.

NANO LETTERS, no. 1 (2009): 178-182

被引用257|浏览11
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摘要

We demonstrate an effective method for depositing smooth silver (Ag) films on SiO/Si-2(100) substrates using a thin seed layer of evaporated germanium (Ge). The deposited Ag films exhibit smaller root-mean-square surface roughness, narrower peak-to-valley surface topological height distribution, smaller grain-size distribution, and smalle...更多

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