额外HCl和氮化对HVPE GaN生长的影响
Pan Tao Ti Hsueh Pao/Chinese Journal of Semiconductors（2003）
摘要
在氢化物气相外延(HVPE)生长GaN过程中,发现了一种在成核阶段向生长区添加额外HCl来改善GaN外延薄膜质量的方法,并且讨论了额外HCl和氮化对GaN形貌和质量的影响.两种方法都可以大幅度地改善GaN的晶体质量和性质,但机理不同.氮化是通过在衬底表面形成AlN小岛,促进了衬底表面的成核和薄膜的融合;而添加额外HCl则被认为是通过改变生长表面的过饱和度引起快速成核从而促进薄膜的生长而改善晶体质量和性质的.
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关键词
Additional HCl,GaN,Hydride vapor phase epitaxy (HVPE),Nitridation
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