Nanocrystals inside : fabrication de composants mémoires MOS à base de nanocristaux de silicium

J Grisolia,G Ben Assayag,R Diaz, Ch Duprat,Francois Guerin, C Capello, C Rouabhi, Frederic Gessinn,M Respaud

J3ea(2014)

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摘要
Cet article presente une formation de courte duree, en salle blanche, donnant une approche pratique complete du concept « NANO-INSIDE » applique a la realisation de memoire de type FLASH par l’integration de nanocristaux de silicium dans la technologie NMOS. Il aborde toutes les operations de fabrication des circuits integres de type « memoires », ainsi que leurs caracterisations a la fois materiaux et composants (electriques). In fine, le but est de montrer a un public etudiant comment une information peut etre memorisee avec des objets nanometriques de facon durable et conservee meme sans alimentation.
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