磁控溅射工艺对CrN薄膜及其腐蚀行为的影响
Journal of the Chinese Society of Corrosion and Protection（2019）
摘要
通过磁控溅射技术制备了CrN薄膜,使用X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)等方法研究了N2分压、溅射功率以及夹杂物数量对CrN薄膜结构、成分、耐蚀性能的影响.结果 表明,提高N2分压能增加CrN相的含量,且CrN基体有明显的(111)和(200)面取向;降低溅射功率有利于使更多的Cr参与反应,生成更多的CrN.此外,夹杂物数量对薄膜质量有重大影响,夹杂物处不易镀上膜导致其耐蚀性明显下降.
更多关键词
magnetron sputtering process parameters,crn films,stainless steel
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