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在清言上使用

Comprehensive Design Methodology of Dopant Profile to Suppress Gate-LER-induced Threshold Voltage Variability in Sub-30 Nm NMOSFETs

H. Fukutome, Yoko Hori, K. Hosaka, Momiyama Yoichi,Shuichi Satoh, T. Sugii

IEICE Technical Report IEICE Tech Rep(2009)

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