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Area-selective atomic layer deposition (AS-ALD) of low temperature (300 °C) cobalt thin film using octadecyltrichlorosilane (ODTS) self-assembled monolayers (SAMs)

Chaewon Kim, Moonsuk Choi, Jihyun Sim,Hyungjun Kim,Changhwan Choi

Applied Surface Science（2024）

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