低速陽電子ビームを用いたhigh-kゲート絶縁膜の空隙の評価(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)明良 上殿,崇 大塚,健一 伊東,賢二 白石,紀久夫 山部,誠一 宮崎,直人 梅澤,豊裕 知京,俊行 大平,良一 鈴木,誠治 犬宮,聡 神山,泰志 赤坂,安雄 奈良,啓作 山田SIAM International Conference on Data Mining (SDM)CCF B被引用23|浏览4上传PDF引用加入学术空间AI Read Science数据免责声明页面数据均来自互联网公开来源、合作出版商和通过AI技术自动分析结果，我们不对页面数据的有效性、准确性、正确性、可靠性、完整性和及时性做出任何承诺和保证。若有疑问，可以通过电子邮件方式联系我们：report@aminer.cnChat Paper正在生成论文摘要
引用
