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Indira Seshadri,Jennifer Church, Prateek Hundekar,Mary Breton,Jingyun Zhang,Eric R. Miller,Andrew M. Greene,Frougier Julien, Chris Waskiewicz,Tao Li, Tsung-Sheng Kang, Daniel J. Dechene,
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography XII (2021)
Metrology, Inspection, and Process Control for Semiconductor Manufacturing XXXV (2021)
Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability XIV (2020)
Gangadhara Raja Muthinti,Nicolas Loubet,Robinhsinkuo Chao, Abraham Arceo de la Pena,Dexin Kong,Juntao Li, Brock Mendoza,Veeraraghavan S. Basker,Tenko Yamashita, John G. Gaudiello, Matthew Sendelbach,Aron Cepler,
Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XXXII (2018)
Dexin Kong,Robinhsinkuo Chao,Mary Breton,Chi-Chun Liu,Gangadhara Raja Muthinti,Soon-Cheon Seo,Nicolas Loubet,Pietro Montanini, John G. Gaudiello,Veeraraghavan S. Basker,Aron Cepler, Susan Ng-Emans,
Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XXXII (2018): 225-234
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