基底温度和离子源能量对薄膜应力的影响

Hao Shuai,Cui Bifeng,Fang Tianxiao,Wang Yang

Laser & Optoelectronics Progress（2018）

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摘要

在不同的基底温度和离子源能量下,采用电子束蒸发方法在GaAs基底上分别制备了SiO2、TiO2和Al2O3光学薄膜.测量了所制备薄膜的表面应力,并对不同离子源能量下薄膜的折射率进行了测试.结果表明,三种光学薄膜的表面应力呈不均匀分布,通过调节基底温度和离子源能量能有效减小薄膜应力,SiO2、TiO2和Al2O3薄膜的平均应力最小值分别为2.9,8.4,25.1 MPa.

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关键词

thin films, substrate temperature, ion source energy, refractive index, average stress

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