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kMC TDDBシミュレーションを持つ超薄EOT高k金属ゲートNMOSFETの時間依存絶縁破壊特性に及ぼすTiNキャッピング層の影響に関する研究【Powered by NICT】

Xu Hao,Yang Hong,Luo Weichun,Xu Yefeng,Wang Yanrong,Tang Bo,Wang Wenwu,Qi Luwei,Li Junfeng,Yan Jiang,Zhu Huilong,Zhao Chao,Chen Dapeng,Ye Tianchun

Chinese Physics B（2016）

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