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Inductively coupled plasma etching of graded-refractive-index layers of TiO2and SiO2using an ITO hard mask

Ahmed N. Noemaun,Frank W. Mont,Jaehee Cho,E. Fred Schubert,Gi Bum Kim,Cheolsoo Sone

Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films（2011）

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