ゲート-ファースト及びゲート-ラスト集積化における高性能CMOS用キャップ無し単一金属ゲートを用いたデュアルチャネル技術
L Witters,Jerome Mitard, A. Veloso,Andriy Hikavyy,J. Franco, T. Kauerauf,Moonju Cho,Tom Schram, F. Sebai, S. Yamaguchi,Shinji Takeoka, M. Fukuda, Wang W.-E.,Blandine Duriez,Geert Eneman,Roger Loo, K. Kellens,Hilde Tielens,Paola Favia, E. Rohr,Geert Hellings,Hugo Bender,Philippe Roussel, Y. Crabbe, Stephan Brus,G. Mannaert,Stefan Kubicek,Katia Devriendt,K. De Meyer,, An L. Steegen,Naoto Horiguchi international electron devices meeting（2011）
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