氮化硅微腔中的光学频率梳(特邀)
Infrared and Laser Engineering（2022）
摘要
具有高品质因子(Q值)的光学谐振腔能够长时间将光束缚在较小的模式体积内,极大地增强了光与物质的相互作用,成为集成光学器件中具有重大潜力的重要组成部分.聚焦于目前广泛应用于集成非线性光学领域的氮化硅材料平台,为了解决大尺寸氮化硅微环腔由拼接误差、表面粗糙等因素导致的散射损耗较大的问题,进行了一系列的工艺改进以提高大尺寸氮化硅微环腔的品质因子.结果 表明:通过薄膜再沉积工艺可以有效降低氮化硅波导的散射损耗,半径为560μm的大尺寸氮化硅微环腔的本征Q值得到了平均26％的提升.得益于提高的微腔Q值,在氮化硅微环腔中实现了重复频率40 GHz的光学频率梳.
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