基于皮秒激光诱导击穿光谱技术的镓酸锌薄膜的快速定量分析研究

采用射频磁控溅射方法在不同的溅射功率下制备了掺杂Ga元素的ZnO透明导电薄膜材料(ZnGa2O4, GZO)，在GZO薄膜的制备过程中，溅射功率会对样品的组分配比产生影响，从而导致GZO薄膜的性能产生差异。文中利用皮秒激光诱导击穿光谱技术（PS-LIBS）对GZO薄膜进行了微烧蚀分析，对GZO薄膜的关键元素浓度比进行了快速定量分析研究。结果表明GZO薄膜的光学性能与元素谱线强度比之间存在一定的联系，随着溅射功率的增加，Zn/Ga的谱线强度比值与浓度比呈现出一致的变化，Ga元素的含量与样品的禁带宽度变化一致。同时，使用玻耳兹曼斜线法与斯塔克展宽法对等离子体温度与电子密度进行了计算。所有结果表明，PS-LIBS技术可以实现GZO薄膜关键组分配比的快速分析，为磁控溅射法制备GZO薄膜的工艺现场的快速性能分析、制备参数的实时优化提供了技术参考。