Ultra-high Tunneling Electroresistance Ratio (2 × 10 4 ) & Endurance (10 8 ) in Oxide Semiconductor-Hafnia Self-rectifying (1.5 × 10 3 ) Ferroelectric Tunnel Junction.Junghyeon Hwang,Chaeheon Kim,Hunbeom Shin,Hwayoung Kim,Sang-Hee Ko Park,Sanghun JeonSymposium on VLSI Circuits (VLSIC)(2023)被引用1|浏览15上传PDF原文链接分享引用加入学术空间AI Read Science溯源树样例生成溯源树,研究论文发展脉络数据免责声明页面数据均来自互联网公开来源、合作出版商和通过AI技术自动分析结果,我们不对页面数据的有效性、准确性、正确性、可靠性、完整性和及时性做出任何承诺和保证。若有疑问,可以通过电子邮件方式联系我们:report@aminer.cnChat Paper正在生成论文摘要