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昌男 高橋 | AMiner学者主页 | AMiner
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1
27aPS-144 γ'-Fe_4N高圧下メスバウアー分光とX線回折(27aPS 領域8ポスターセッション(磁性,低温1),領域8(強相関系:高温超伝導,強相関f電子系など))
敬太 徳道
,
隆輝 川上
,
昌男 高橋
,
博樹 高橋
2013
引用:23
引用
AI阅读
加入学术空间
2
24pCC-11 シアン化処理法を用いた欠陥除去と洗浄による太陽電池用シリコン基板のライタイムの向上(24pCC 表面界面構造,領域9(表面・界面,結晶成長))
カイ 王
,
健俊 松本
,
昌男 高橋
,
光 小林
2012
引用:23
引用
AI阅读
加入学术空间
3
欠陥消滅型半導体洗浄液によるシリコン材料表面の汚染銅除去(半導体のプロセス・デバイス(表面,界面,信頼性),一般)
昌男 高橋
,
裕子 東
,
比呂晃 成田
,
仁雄 岩佐
,
光 小林
2010
引用:23
引用
AI阅读
加入学术空间
4
23aGP-12 HCN水溶液によるSiO_2表面の銅除去 : 極微量汚染銅の化学結合状態(23aGP 表面界面構造,領域9(表面・界面,結晶成長))
昌男 高橋
,
裕子 東
,
仁雄 岩佐
,
光 小林
2010
引用:23
引用
AI阅读
加入学术空间
5
23aWS-11 HCN水溶液による半導体表面清浄化 : 10^ 原子/cm^2オーダの銅の化学状態解析(23aWS 表面界面構造(半導体),領域9(表面・界面,結晶成長))
昌男 高橋
,
裕子 東
,
仁雄 岩佐
,
光 小林
2010
引用:23
引用
AI阅读
加入学术空间
6
ppmオーダの欠陥消滅型半導体洗浄液によるSiO 2 表面上の銅汚染除去
高橋昌男
,
東裕子
,
岩佐仁雄
,
小林光
2009
引用
AI阅读
加入学术空间
7
28aYG-12 HCN水溶液によるSiO_2表面の吸着Ni除去機構(表面界面構造,領域9,表面・界面,結晶成長)
昌男 高橋
,
裕子 東
,
伶 劉
,
仁雄 岩佐
,
光 小林
2009
引用:23
引用
AI阅读
加入学术空间
8
23aXB-7 HCN水溶液による4H-SiC表面上の吸着金属の完全除去(23aXB 表面界面構造,領域9(表面・界面,結晶成長))
昌男 高橋
,
モハマド マダニ
,
伶 劉
,
仁雄 岩佐
,
光 小林
2008
引用:23
引用
AI阅读
加入学术空间
9
21pPSA-51 高圧下におけるγ'-Fe_4Nのメスバウアー分光測定(21pPSA 領域3ポスターセッション,領域3(磁性,磁気共鳴))
小林 裕和
,
川上 隆輝
,
那須 三郎
,
森本 正太郎
,
斎藤 直
,
高橋 昌男
2008
引用
AI阅读
加入学术空间
10
20pXA-4 新規の硝酸法によるSiO_2/Si構造の低温形成(20pXA 結晶成長,領域9(表面・界面,結晶成長))
隆 柳瀬
,
昌男 高橋
,
健俊 松本
,
仁雄 岩佐
,
澄雄 寺川
,
光 小林
2008
引用:22
引用
AI阅读
加入学术空间
11
21pPSA-51 高圧下におけるγ'-Fe_4Nのメスバウアー分光測定(21pPSA 領域3ポスターセッション,領域3(磁性,磁気共鳴))
裕和 小林
,
隆輝 川上
,
三郎 那須
,
正太郎 森本
,
直 斎藤
,
昌男 高橋
2008
引用:23
引用
AI阅读
加入学术空间
12
24aTD-13 HCN溶液によるシリコン表面上の吸着銅の完全除去と表面形態制御(表面界面ダイナミクス,表面界面構造,領域9,表面・界面,結晶成長)
昌男 高橋
,
伶 劉
,
比呂晃 成田
,
光 小林
2008
引用:23
引用
AI阅读
加入学术空间
13
18pTB-7 高圧下メスバウアー分光測定を用いたγ'-Fe_4Nの磁気的性質(18pTB 磁気共鳴一般,実験技術開発,磁性一般,表面・界面磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
麻美 伊藤
,
隆輝 川上
,
三郎 那須
,
正太郎 森本
,
直 斉藤
,
昌男 高橋
2007
引用:22
引用
AI阅读
加入学术空间
14
22aPS-34 γ'-Fe_4Nの高圧下メスバウアー分光測定(領域3ポスターセッション(f電子,遍歴,化合物,酸化物,磁性一般,表面・界面),領域3,磁性,磁気共鳴)
裕和 小林
,
隆輝 川上
,
三郎 那須
,
正太郎 森本
,
直 斎藤
,
昌男 高橋
2007
引用:23
引用
AI阅读
加入学术空间
15
19aTG-8 硝酸酸化法で形成したSiO_2/SiC構造の表面・界面 : 水素処理の効果(表面界面構造,領域9,表面・界面,結晶成長)
昌男 高橋
,
モハマド マダニ
,
星淳 任
,
アスハ
,
光 小林
2007
引用:23
引用
AI阅读
加入学术空间
16
22pYE-7 シアン化物イオンによるSi表面の金属脱離(表面界面構造,領域9(表面・界面,結晶成長))
昌男 高橋
,
伶 劉
,
比呂晃 成田
,
光 小林
2005
引用:23
引用
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加入学术空间
17
24pWB-6 シアン化物溶液中での電気化学酸化法によるシリコンオキシナイトライド膜の低温創製(表面・界面電子物性,領域9(表面・界面, 結晶成長))
昌男 高橋
,
星淳 任
,
仁雄 岩佐
,
光 小林
2005
引用:23
引用
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加入学术空间
18
15pXG-6 非エッチングシリコン洗浄液を用いたシリコン表面の重金属除去 (2) : 銅洗浄機構(表面界面構造 : 半導体, 領域 9)
昌男 高橋
,
伶 劉
,
直澄 藤原
,
唯生 中村
,
権一 深山
,
仁雄 岩佐
,
光 小林
2004
引用:23
引用
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加入学术空间
19
非エッチングシリコン洗浄による銅汚染除去 (4):洗浄メカニズム
藤原直澄
,
Liu Y
,
中村唯生
,
深山権一
,
高橋昌男
,
小林光
2004
引用
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加入学术空间
20
12pWB-6 γ'-Fe_4N の高圧下メスバウアー分光(化合物磁性, 磁性半導体・絶縁体, 実験技術開発, 磁気共鳴一般, 磁性一般, 領域 3)
隆輝 川上
,
三郎 那須
,
麻美 伊藤
,
貴明 石川
,
正太郎 森本
,
昌男 高橋
2004
引用:23
引用
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作者统计
合作学者
合作机构
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合作者
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xiaolin guang (光 小林)
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20
ren xiong yan zuo (仁雄 岩佐)
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10
wen yi jin wan (文一 金丸)
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9
san lang na xu (三郎 那須)
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7
xin yi ji chuan (信一 吉川)
合作论文数
6
long hui chuan shang (隆輝 川上)
合作论文数
6
zheng tai lang sen ben (正太郎 森本)
合作论文数
5
dong yuzi (裕子 東)
合作论文数
5
liu ling (伶 劉)
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5
meitian xiu (修 毎田)
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4
cun sheng wei zhong (唯生 中村)
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3
hong zhi yan gu (宏治 延谷)
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3
bi lu huang cheng tian (比呂晃 成田)
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3
daocun wei (偉 稲村)
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2
shanben rong (融 山本)
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2
zhaiteng zhi (直 斎藤)
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2
ma mei yi teng (麻美 伊藤)
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2
hong shu teng jing (宏樹 藤井)
合作论文数
2
yu he xiao lin (裕和 小林)
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2
モハマド マダニ
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2
jian jun song ben (健俊 松本)
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2
jun lang tang qian (俊郎 湯浅)
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1
tai hong qiao ben (泰宏 橋本)
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1
che tong ye cun (徹 樋野村)
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1
cheng xiong si chuan (澄雄 寺川)
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1
hao xing zhong chuan (浩行 中川)
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1
bo shu gao qiao (博樹 高橋)
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da shu gong ben (大樹 宮本)
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1
sen xiong jing shang (森雄 井上)
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1
shan zhang (長山)
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1
相似学者
xiaolin guang
ren xiong yan zuo
wen yi jin wan
san lang na xu
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