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Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography XII (2021)
Alberto Pirati,Rudy Peeters,Daniel Smith,Sjoerd Lok,Martijn van Noordenburg,Roderik van Es,Eric Verhoeven,Henk Meijer, Arthur Winfried Eduardus Minnaert, Jan-Willem van der Horst,Hans Meiling,J. Mallmann,Christian Wagner,Judon Stoeldraijer,Geert Fisser,Jo Finders,Carmen Zoldesi,Uwe Stamm,Herman Boom,David Brandt,Daniel John William Brown,Igor V. Fomenkov,Michael A. Purvis
Alberto Pirati,Rudy Peeters,Daniel Smith,Sjoerd Lok,Arthur Minnaert,Martijn van Noordenburg,Joerg Mallmann,Noreen Harned,Judon Stoeldraijer,Christian Wagner,Carmen Zoldesi,Eelco van Setten,Jo Finders, Koen de Peuter, Chris de Ruijter, Milos Popadic, Roger Huang, Martin Lin, Frank Chuang,Roderik van Es,Marcel Beckers,David Brandt,Nigel Farrar,Alex Schafgans,Daniel Brown,Herman Boom,Hans Meiling,Ron Kool
Alexander A. Schafgans,Daniel Brown,Igor Fomenkov, Rick Sandstrom,Alex Ershov,Georgiy Vaschenko,Rob Rafac,Michael Purvis,Slava Rokitski,Yezheng Tao,Daniel Riggs,Wayne Dunstan,Matthew Graham,Nigel Farrar,David Brandt,Norbert Bowering,Alberto Pirati,Noreen Harned,Christian Wagner,Hans Meiling,Ron Kool
VLSI Technology, Systems and Applicationspp.1-2, (2011)
PHOTOMASK TECHNOLOGY 2010 (2010)
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