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Feature-Scale To Wafer-Scale Modeling And Simulation Of Physical Vapor Deposition
Peter L O Sullivan,F H Baumann,George H Gilmer,Jacques Dalla Torre,Chansoo Shin,I Petrov,Taeyoon Lee
DISPERSIVE TRANSPORT EQUATIONS AND MULTISCALE MODELS (2004): 219-236
引用1浏览0引用
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The Application of Solid Source Diffusion in the Vertical Replacement-Gate (VRG) MOSFET
Sang-Hyun Oh, J. M. Hergenrother,Don Monroe, T. Nigam, F. P. Klemens, A. Kornblit, W. M. Mansfield,F. H. Baumann,H. J. Gossmann,C. A. King,R. N. Kleiman, H. H. Vuong,
MRS Online Proceedings Libraryno. 1 (2000): 321-326
引用2浏览0引用
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Scanning capacitance microscopy imaging of state-of-the-art MOSFETs
RN Kleiman,ML O'Malley,FH Baumann,JP Garno,GL Timp
INSTITUTE OF PHYSICS CONFERENCE SERIESpp.615-624, (1999)
引用0浏览0引用
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Growth and Structure of Metallic Barrie Laye and Interconnect Films I: Exeriments
D. L. Windt,J. Dalla Torre,G. H. Gilmer, J. Sapjeta, R. Kalyanaraman,F. H. Baumann, P. L. O’Sullivan, D. Dunn, R. Hull
MRS Online Proceedings Libraryno. 1 (1999): 307-312
引用0浏览0引用
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0
The electronic structure at the atomic scale of ultrathin gate oxides
D. A. Muller, T. Sorsch, S. Moccio,F. H. Baumann,K. Evans-Lutterodt,G. Timp
Natureno. 6738 (1999): 758-761
引用1503浏览0WOSNATURE引用
1503
0
Numerical Simulations Of Sputter Deposition And Etching In Trenches Using The Level Set Technique
Pl O'Sullivan,Fh Baumann,Gh Gilmer
PROCEEDINGS OF THE FIFTH INTERNATIONAL SYMPOSIUM ON PROCESS PHYSICS AND MODELING IN SEMICONDUCTOR TECHNOLOGYno. 2 (1999): 449-451
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