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Method of fabricating field effect transistors with low k sidewall spacers
Kangguo Cheng, Louis Luchen Hsu,Jack A Mandelman, William R Tonti
mag（2013）
引用23浏览0引用
23
0
Method of forming vertical transistor trench capacitor DRAM with SOI logic devices
Adkisson James A Ibm United Kingdom Ltd, Divakaruni Ramachandra C,Gambino Jeffrey P C, O Ibm United Kingdom Ltd,Mandelman Jack A C
mag（2013）
引用23浏览0引用
23
0
Sea-of-fins structure on a semiconductor substrate and method of fabrication
Howard H Chen, Louis C Hsu,Jack A Mandelman, Chunyung Sung
mag（2013）
引用42浏览0引用
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Layered structure with fuse
Louis Luchen Hsu,Jack A Mandelman, William R Tonti,Chihchao Yang
mag（2013）
引用23浏览0引用
23
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FINFET WITH REDUCED GATE TO FIN OVERLAY SENSITIVITY
Kangguo Cheng, Louis L Hsu,Jack A Mandelman, John Edward Sheets
mag（2012）
引用30浏览0引用
30
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Process for forming an active area and a shallow trench isolation self-aligned to a deep trench
R Divakaruni, Ulrike Gruning, Byeong Y Kim,Jack A Mandelman, Larry Nesbit,Carl J Radens
mag（2011）
引用23浏览0引用
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