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Optimization of NIL and associated pattern transfer processes for the fabrication of advanced devices
Makoto Ogusu,Masahiro Tamura, Yu Nomura, Tomohiro Saito, Hideki Kunugi, Tomohito Yamaji, Fumiaki Tanaka, Takahiro Abe
Novel Patterning Technologies 2024 (2024)
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Nanoimprint post processing techniques to address edge placement error
Go Tsuchiya, Makoto Ogusu, Masaki Ishida,Masahiro Tamura, Keita Sakai,Toshiki Ito,Yuto Ito, Isao Kawata, Hideki Kunugi, Shuhei Tamura, Ryuichi Asako, Keisuke Tanaka,
Photomask Japan 2023: XXIX Symposium on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology (2023)
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Nanoimprint Edge Placement Error Elements and Control
Makoto Ogusu, Masaki Ishida,Masahiro Tamura,Keita Sakai,Toshiki Ito,Yuto Ito,Isao Kawata, Hdeki Kunugi, Shuhei Tamura, Ryuichi Asano,Keisuke Tanaka, Tomohito Yamaji
NOVEL PATTERNING TECHNOLOGIES 2022 (2022)
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Addressing NIL integration for semiconductor device manufacturing
Sentaro Aihara, Noburu Takakura, Fuma Kizu,Satoru Jimbo, Koji Ishibashi,Junichi Seki,Yuichiro Oguchi,Toshiya Asano, Yoichi Matsuoka,Masahiro Tamura,Osamu Morimoto
https://doi.org/10.1117/12.2584720 (2021): 1161007
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