基本信息
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职业迁徙
个人简介
Yasumitsu Nozawa received the B.E. degree in electrical engineering from Kanagawa University, Kanagawa, Japan, in 1983.
He joined the Memory LSI Design Group, Toshiba Microelectronics Corporation, Kawasaki, Japan, in 1983. Since then, he has been engaged in the development of HSRAM, NOR and NAND flash memory devices. He is currently working on the MOS LSI Engineering Group (TOSMEC).
研究兴趣
论文共 10 篇作者统计合作学者相似作者
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时间
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合作者
合作机构
Basic Research in Cardiologyno. 5 (2001): 446-453
Molecular and cellular biochemistryno. 1/2 (2000): 51-59
Cardiovascular Drugs and Therapyno. 4 (1998): 365-373
作者统计
#Papers: 10
#Citation: 179
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G-Index: 9
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合作学者
合作机构
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