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Contamination control for ArF photo masks
Joseph S Gordon, Marianna Silova, Brid Connolly, J M Huijbregtse, Nicolae Maxim,Larry E Frisa,Christian Chovino, Colleen Weins
mag（2009）
引用1浏览0EIWOS引用
1
0
Damage free megasonic resonance cleaning for the 45nm design rule
S J Osborne, V Baudiquez,Thomas Rode,Christian Chovino,Hidekazu Takahashi, Eric Woster
PROCEEDINGS OF THE SOCIETY OF PHOTO-OPTICAL INSTRUMENTATION ENGINEERS (SPIE) (2007): XIX-XXXV
引用2浏览0EIWOS引用
2
0
Photomask and method for maintaining optical properties of the same
Laurent Dieu, Joseph S Gordon, Eric Johnstone,Christian Chovino
mag（2006）
引用25浏览0引用
25
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Manufacturing Of The First Euv Full Field Scanner Mask
U Dersch, Rico Buettner,Christian Chovino, Steffen Franz, Torben Heins, Holger Herguth,Jan Hendrik Peters,Thomas Rode,Florian Letzkus,Joerg Butschke,Mathias Irmscher
PHOTOMASK TECHNOLOGY 2006, PTS 1 AND 2 (2006): 721-734
引用3浏览0引用
3
0
Method for cleaning a surface of a photomask
Christian Chovino, Matthew Lamantia
mag（2006）
引用24浏览0引用
24
0
Auv5500: Advanced In-Situ Dry Cleaning And Metrology Process For Next Generation Lithography
C Chovino,S Helbig, P Dress
Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XII, Pts 1 and 2 (2005): 507-515
引用2浏览0引用
2
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