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Contamination control for ArF photo masks
Joseph S Gordon, Marianna Silova, Brid Connolly, J M Huijbregtse, Nicolae Maxim,Larry E Frisa,Christian Chovino, Colleen Weins
mag（2009）
引用1浏览0EIWOS引用
1
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Semiconductor device, memory cell, and processes for forming them
Craig S Lage, Mousumi Bhat, Y T Lii, Andrew G Nagy,Larry E Frisa, S Filipiak, D Omeara, T P Ong, Michael P Woo, Terry G Sparks, Carol M Gelatos
mag（2004）
引用26浏览0引用
26
0
Method for removing particles from a semiconductor processing tool
Larry E Frisa, Scott S Kellogg, Grant W Mcewan, Michael N Montgomery, Iraj Eric Shahvandi
mag（2004）
引用25浏览0引用
25
0
Process for forming a semiconductor device having an interconnect or conductive film electrically insulated from a conductive member or region
Craig S Lage, Mousumi Bhat, Y T Lii, Andrew G Nagy,Larry E Frisa, S Filipiak, D Omeara, T P Ong, Michael P Woo, Terry G Sparks, Carol M Gelatos
mag（2001）
引用35浏览0引用
35
0
CMOS semiconductor devices and method of formation
Bikas Maiti,Philip J Tobin, C Joseph Mogab, C Hobbs,Larry E Frisa
mag（1998）
引用130浏览0引用
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0
A Self-Aligned Silicide Process Technology For Sub-0.25 Mu M Geometries
Ted R White, Dave Kolar, Mohamed Jahanbani,Larry E Frisa,Rajan V Nagabushnam,Harry Chuang,Paul Tsui, Jeff Cope, Larry Pulvirent,Scott Bolton
MICROELECTRONIC DEVICE TECHNOLOGY II (1998): 112-119
引用1浏览0引用
1
0
Control of PVD TiN thickness measurements
Leo Asinovsky,Larry E. Frisa
Microelectronic Engineeringno. SP1-4 (1997): 427-432
引用3浏览0EI引用
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